金融界2025年7月2日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“带电粒子光学装置、评估设备、评估样品的方法”的专利，公开号CN120239895A，申请日期为2023年11月。

专利摘要显示，本公开涉及用于向样品投射带电粒子的带电粒子装置以及使用带电粒子评估样品的方法。带电粒子光学元件朝向样品引导带电粒子束。带电粒子光学元件包括板，在该板中限定有束孔和多个透气孔。束管限定内管体积，该内管体积包括束的带电粒子的在板的束上游的路径，以及在束管外部的外管区域。束孔用于束的带电粒子从内管体积到束下游体积的朝向样品的通过，该束下游体积在板的与内管体积相对的一侧。透气孔将束下游体积流体地连接到外管区域。

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